新舊半導體設備進口報關辦理機電證、CCIC等需一般資料是：1、申請表2、申請報告（報告詳細寫明企業(yè)的基本情況、生產(chǎn)情況、進口機電設備的用途、生產(chǎn)制造日期、使用年限、現(xiàn)在狀況，如生產(chǎn)日期較早必須作出特殊情況說明）3、機電設備檢測說明，上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富，必須出具國家檢驗機構或機電設備供應商提供的檢測報告，上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富。4、企業(yè)的營業(yè)執(zhí)照、批準證書（外商投資企業(yè)須提供）5、設備清單（含原產(chǎn)地、品牌、型號、貨值、生產(chǎn)年份、使用年限等）6、機電設備彩色照片7、工作聯(lián)系單新舊半導體清關一般所需資料：A進口法定檢驗B進口機電許可證(舊)C進口舊機電產(chǎn)品裝運前檢驗證書(我國九個駐外商檢機構:日本、香港、不萊梅、馬賽、倫敦、加拿大、歐洲、北美、西班牙）D進口口岸檢疫局辦的進口舊機電產(chǎn)品備案申請書E如進口的機器是印刷機就需要到國家總暑辦理印刷經(jīng)營許可證F如產(chǎn)品稅號涉及到國家強制認證的需提供3C證書G如進口國為美日韓歐盟等國家的還需提供IPPC，上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富。韓國半導體設備進口清關代理，半導體制造設備清關服務、半導體設備生產(chǎn)線進口報關代理。上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富

分子束外延系統(tǒng)（MBE，MolecularBeamEpitaxySystem）設備名稱：分子束外延系統(tǒng)設備功能：分子束外延系統(tǒng)，提供在沉底表面按特定生長薄膜的工藝設備；分子束外延工藝，是一種制備單晶薄膜的技術，它是在適當?shù)囊r底與合適的條件下，沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜。主要企業(yè)（品牌）：國際：法國Riber公司、美國Veeco公司、芬蘭DCAInstruments公司、美國SVTAssociates公司、美國NBM公司、德國Omicron公司、德國MBE-Komponenten公司、英國OxfordAppliedResearch（OAR）公司......國內(nèi)：沈陽中科儀器、北京匯德信科技有限公司、紹興匡泰儀器設備有限公司、沈陽科友真空技術有限公司......4、氧化爐（VDF）設備名稱：氧化爐設備功能：為半導體材料進行氧化處理，提供要求的氧化氛圍，實現(xiàn)半導體預期設計的氧化處理過程，是半導體加工過程的不可缺少的一個環(huán)節(jié)。主要企業(yè)。上海代理半導體設備進口報關怎么收費根據(jù)進口商品的HS編碼，確定關稅稅率和進口環(huán)節(jié)所需的其他稅費。

半導體設備位于整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游，在新建晶圓廠中半導體設備支出的占比普遍達到80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下：廠房20%、晶圓制造設備65%、組裝封裝設備5%，測試設備7%，其他3%。其中晶圓制造設備在半導體設備中占比比較大，進一步細分晶圓制造設備類型，光刻機占比30%，刻蝕20%，PVD15%，CVD10%，量測10%，離子注入5%，拋光5%，擴散5%。17年全球半導體設備市場總量約為566億美元，同比+37%，2018年預計在600億美元規(guī)模。中國是全球半導體設備的第三大市場，17年中國半導體設備，增速27%。1956年制定的《1956-1967科學技術發(fā)展遠景規(guī)劃》中，已將半導體技術列為四大科研重點之一，明確提出“在12年內(nèi)可以制備和改進各種半導體器材、器件”的目標。同期教育部集中各方資源在北京大學設立半導體專業(yè)，培養(yǎng)了包括王陽元院士、許居衍院士等批半導體人才。半導體產(chǎn)業(yè)鏈復雜、技術難度高、需要資金巨大，且當時國內(nèi)外特定的社會環(huán)境，中國在資金、人才及體制等各方面困難較多，導致中國半導體的發(fā)展舉步維艱。(圖表1、2為半導體產(chǎn)業(yè)鏈圖)直到70年代，中國半導體產(chǎn)業(yè)的小規(guī)模生產(chǎn)才正式啟動。原電子工業(yè)部部長在其著作《芯路歷程》中回憶這一階段歷史。

低壓化學氣相淀積系統(tǒng)（LPCVD。LowPressureChemicalVaporDepositionSystem）設備名稱：低壓化學氣相淀積系統(tǒng)設備功能：把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入LPCVD設備的反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜。主要企業(yè)（品牌）：國際：日本日立國際電氣公司......國內(nèi)：上海馳艦半導體科技有限公司、中國電子科技集團第四十八所、中國電子科技集團第四十五所、北京儀器廠、上海機械廠......6、等離子體增強化學氣相淀積系統(tǒng)（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）設備名稱：等離子體增強化學氣相淀積系統(tǒng)設備功能：在沉積室利用輝光放電，使其電離后在襯底上進行化學反應，沉積半導體薄膜材料。主要企業(yè)（品牌）：國際：美國ProtoFlex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國泛林半導體（LamResearch）公司、荷蘭ASM國際公司......國內(nèi)：中國電子科技集團第四十五所、北京儀器廠、上海機械廠......7、磁控濺射臺（MagnetronSputterApparatus）設備名稱：磁控濺射臺設備功能：通過二極濺射中一個平行于靶表面的封閉磁場，和靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域，實現(xiàn)高離子密度和高能量的電離。切割機進口清關代理，固晶機進口報關服務，焊線機進口代理清關。

國產(chǎn)化情況:國產(chǎn)自給率低，技術加速追趕。根據(jù)中國電子設備工業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù)，預計2018年國產(chǎn)泛半導體設備銷售額約109億元，但真正的IC設備國內(nèi)市場自給率有5%左右，國產(chǎn)替代空間巨大。在02專項的統(tǒng)籌規(guī)劃下，國內(nèi)半導體廠商分工合作研發(fā)不同設備，涵蓋了主要設備種類。國內(nèi)廠商仍處于技術追趕期，但隨著摩爾定律趨近極限，技術進步放緩，國內(nèi)廠商與全球技術差距正在逐漸縮短，我們認為未來3-5年將是半導體設備國產(chǎn)替代黃金戰(zhàn)略機遇期。、設備簡介:技術高、進步快、種類多、價值大半導體行業(yè)技術高、進步快，一代產(chǎn)品需要一代工藝，而一代工藝需要一代設備。半導體產(chǎn)業(yè)技術進步主要有兩大方向:一是制程越小→晶體管越小→相同面積上的元件數(shù)越多→性能越高→產(chǎn)品越好;二是硅片直徑越大→硅片面積越大→單個晶圓上芯片數(shù)量越多→效率越高→成本越低。半導體工藝流程主要包括單晶硅片制造、IC設計、IC制造和IC封測。單晶硅片制造需要單晶爐等設備，IC制造需要光刻機、刻蝕機、薄膜設備、擴散\離子注入設備、濕法設備、過程檢測等六大類設備。半導體設備中，晶圓代工廠設備采購額約占80%，檢測設備約占8%，封裝設備約占7%，硅片廠設備等其他約占5%。一般情況下。半導體生產(chǎn)線制造設備進口清關代理公司，進口半導體設備報關代理。上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富

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2016財年的訂單均占該公司銷售收入的10%以上。2014和2015財年，Lam在韓國半導體設備銷售額比較高，占整體銷售比例為24%和27%，在中國臺灣地區(qū)銷售額高達，同比增長，占比為25%。由于中國大陸半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，2016財年，中國大陸成為Lam半導體設備銷售的第二大市場。東京電子東京電子是日本前列的半導體設備提供商，主要從事半導體設備和平板顯示器設備制造。英文簡寫為TEL，全稱為TokyoElectronLimited。1963年在日本東京成立，公司名為東京電子研究所。1968年東京電子與ThermcoProductsCorp合作開始生產(chǎn)半導體設備。1978年公司正式改名為東京電子有限公司。1983年，東京電子與美國公司拉姆研究合作，引進當時前列的美國技術，在日本本土開始生產(chǎn)刻蝕機。公司在2018財年營業(yè)收入增長，凈利潤增長。公司十分注重研發(fā)投入，2018財年的計劃研發(fā)費用約1200億日元（約合80億人民幣），設備投資510億日元（約合30億人民幣），東京電子業(yè)務分為兩大板塊：工業(yè)機械制造和電子計算機組件，其中工業(yè)機械設備制造又細分為半導體制造和平板顯示器以及光伏設備制造。根據(jù)公司年報，從2015財年開始，半導體制造已經(jīng)成為公司發(fā)展業(yè)務，占公司總營收90%以上。上海專業(yè)的半導體設備進口報關經(jīng)驗豐富

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