中國電子設備工業(yè)協(xié)會統(tǒng)計的數(shù)據(jù)包括LED、顯示、光伏等設備，我們認為實際上國內集成電路IC設備國內市場自給率有5%左右，在全球市場占1-2%。02專項頂層設計，技術加速追趕。2002年之前，我國集成電路設備基本全進口，中國只有3家集成電路設備廠商，由北方微電子，上海半導體設備進口報關誠信合作、北京中科信和上海微電子分別承接國家“863”計劃中的刻蝕機、離子注入機和光刻機項目。2006年，《國家中長期科學和技術發(fā)展規(guī)劃綱要(2006-2020年)》設立國家科技重大專項一一極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝科技項目(簡稱02專項)研發(fā)國產化設備，并于2008年開始實施。2008年之前我國12英寸國產設備為空白，只有2種8英寸設備。在02專項的統(tǒng)籌規(guī)劃下，國內半導體廠商分工合作研發(fā)不同設備，涵蓋了主要設備種類，上海半導體設備進口報關誠信合作，上海半導體設備進口報關誠信合作。目前已有20種芯片制造關鍵裝備、17種先進封裝設備，通過大生產線驗證進入海內外銷售。美國Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國泛林半導體晶圓（Lam Research）公司、荷蘭ASML。上海半導體設備進口報關誠信合作

ASML2017年光刻機全球市占率，其EUV光刻機實現(xiàn)全球壟斷;Nikon2017年光刻機全球市占率，相較ASML在價格方面具備一定優(yōu)勢;?Canon主要集中于面板等領域，**光刻機市場參與不多;SMEE為全球LED光刻機主要供應商，作為國內**光刻機的**，2018年3月其所承擔的“02專項”“90nm光刻機”通過國家驗收，為全球第四家掌握光刻機系統(tǒng)設計與系統(tǒng)集成技術的企業(yè)，但相較于ASML**的先進水平仍有差距。2）刻蝕機:芯片線寬的縮小以及新制造工藝的采用使刻蝕機使用量有所增加刻蝕機為晶圓制造三大主要設備之一，包括兩種基本的刻蝕工藝，分別為干法刻蝕與濕法腐蝕。其中，干法刻蝕(**為等離子體干法刻蝕)為主流刻蝕技術，濕法腐蝕常用于尺寸較**于3微米)場景或去除干法刻蝕后的殘留物。根據(jù)被刻蝕材料的不同，干法刻蝕還可以進一步分為金屬刻蝕、介質刻蝕、硅刻蝕。競爭格局:根據(jù)TheInformationNetwork的統(tǒng)計數(shù)據(jù)，2017年全球刻蝕機主要供應商包括泛林半導體(LamResearch)、東京電子(TokyoElectron)、應用材料(AppliedMaterials)，其全球市占率分別為55%、20%、19%。國內供應商以中微公司、北方華創(chuàng)為**，預計國內市占率接近20%。上海供應半導體設備進口報關服務前端晶圓制造：單晶爐/多晶爐、硅棒研磨機、晶圓切片機、晶圓倒角機、晶圓研磨機、擴散爐、物相沉淀設備。

圍繞集成電路制造設備、半導體照明器件制造設備、光伏電池制造設備、光電組件制造和系統(tǒng)集成與服務等五個重點技術領域，開發(fā)出了電子材料加工設備、芯片制造設備、光/聲/電檢測設備、化學處理設備、先進封裝設備、電子圖形印刷設備、晶體元器件和光伏電池等八大類工藝設備和產品，服務于集成電路、光電元器件與組件、半導體照明和太陽能光伏電池四大行業(yè).睿勵科學儀器（上海）有限公司是于2005年創(chuàng)建的合資公司，致力于研發(fā)、生產和銷售具有自主知識產權的集成電路生產制造工藝裝備產業(yè)中的工藝檢測設備。主要生產用于65/28/14nm制程工藝控制的膜厚測量設備。沈陽芯源微電子設備有限公司成立于2002年，由中科院沈陽自動化研究所引進國外先進技術投資創(chuàng)建。芯源公司自主開發(fā)的單片勻膠機、顯影機、噴膠機、去膠機、清洗機、濕法刻蝕機等設備廣泛應用于半導體、先進封裝、MEMS、LED等領域。

晶圓加工設備中，光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備(PVD和CVD)技術難度比較高，三者占比分別為30%、25%、25%。預計2019年全球光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備市場規(guī)模分別為127億美元、106億美元和106億美元。全球競爭格局高度集中，CR5占比75%2018年全球半導體設備榜單名包括應用材料、東京電子、拉姆研究、ASML和科磊半導體。除ASML外，各家公司產品線均比較豐富，且名企業(yè)營收均超過一百億美元。半導體設備高門檻導致競爭格局高度集中。目前全球半導體設備市場主要被美國、日本、荷蘭企業(yè)所壟斷。2018年行業(yè)CR5占比75%，CR10占比91%，全球半導體設備競爭格局呈現(xiàn)高度集中狀態(tài)。，國內設備企業(yè)平均自制率為16%，國產設備自制率還有較大提升空間。我國計劃到“十三五”末期，國產集成電路設備在國內芯片制造廠的替代率至少達到30%，全球半導體產能大轉移為國內集成電路設備企業(yè)帶來重要歷史機遇。2018年我國半導體設備單位完成銷售收入，同比增長。目前，我國半導體設備比較大的公司收入與海外巨頭差別較大。國內半導體設備公司有望把握國內晶圓廠投資高峰，迎來重要的發(fā)展時機。、競爭格局高度集中。國內設備中，有中微公司的介質刻蝕機成功進入了國際前列IC制造廠的工藝線。韓國半導體制造設備進口清關代理公司，進口半導體設備報關公司。

2016年，印發(fā)《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產業(yè)發(fā)展規(guī)劃。規(guī)劃提出，到2020年，戰(zhàn)略性新興產業(yè)增加值(含半導體產業(yè))占國內生產總值比重達到15%。半導體設備具備極高的門檻和壁壘，全球半導體設備主要被日美所壟斷，設備如光刻、刻蝕、PVD、CVD、氧化/擴散等設備的top3市占率普遍在90%以上。目前光刻機、刻蝕、鍍膜、量測、清洗、離子注入等設備的國產率普遍較低。經(jīng)過多年培育，國產半導體設備已經(jīng)取得較大進展，整體水平達到28nm，并在14nm和7nm實現(xiàn)了部分設備的突破。具體來講，28nm的刻蝕機、薄膜沉積設備、氧化擴散爐、清洗設備和離子注入機已經(jīng)實現(xiàn)量產；14nm的硅/金屬刻蝕機、薄膜沉積設備、單片退火設備和清洗設備已經(jīng)開發(fā)成功。8英寸的CMP設備也已在客戶端進行驗證；7nm的介質刻蝕機已被中微半導體開發(fā)成功；上海微電子已經(jīng)實現(xiàn)90nm光刻機的國產化。在中低端制程，國產化率有望得到提升，先進制程產線為保證產品良率，目前仍將以采購海外設備為主。光刻機：高精度光刻機被ASML、尼康、佳能三家壟斷，上海微電子是國內前列的光刻機制造商，公司封裝光刻機國內市占率80%，全球40%，光刻機實現(xiàn)90nm制程，并有望延伸至65nm和45nm。等離子去膠機報關、激光劃片報關、等離子刻蝕機報關、CMP研磨拋光系統(tǒng)報關、 真空燒結爐報關。上海供應半導體設備進口報關服務

自動曝光機報關、勻膠/顯影設備報關、離子刻蝕機報關、等離子切割設備報關、PECVD系統(tǒng)報關。上海半導體設備進口報關誠信合作

于2018-02-14在周祝公路1318號4幢1052室成立。憑借地區(qū)優(yōu)勢與機遇，認為拓展行業(yè)市場共同謀發(fā)展，服務商務服務客戶雙贏，公司風雨兼程多年。擁有一支綜合素質高、辦事效率快，行業(yè)經(jīng)驗豐富的人才團隊。團隊成員多為商務服務行業(yè)的專業(yè)人才，積累了豐富的經(jīng)驗，進口報關公司，化妝品進口報關，設備進口報關，進口食品報關為客戶提供一體化解決方案。數(shù)年來公司員工用和汗水，誠信和擔當，智慧和勤奮，鑄就了企業(yè)的輝煌和精彩，為周祝公路1318號4幢1052室及周邊地區(qū)相關行業(yè)產品進口報關公司，化妝品進口報關，設備進口報關，進口食品報關提供了有力的技術支持。我們建立了科學的管理機制和強有力的服務體系；進口報關公司，化妝品進口報關，設備進口報關，進口食品報關技術服務團隊擁有豐富的行業(yè)經(jīng)驗與產品知識，為龐大而良好的客戶群體服務。上海半導體設備進口報關誠信合作

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